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AMC Monitoring System
AMC Monitoring System
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AMC Monitoring System은 신속 정확한 분석에 의한 공정제어가 필수 이를 위해서는 반도체“FAB” 전체를 실시간으로 관리 감시를 위하여는 많은 분석기가 필요 하지만 반도체“FAB”을 분리(Section) 하여 실시간으로 분리(Section) 공기를 흡입 수집하여 분리(Section) 의 공기를 실시간으로 신속히 분석기로 이송 시키는 장치가 필요한데, 이 장치가 Sampler System입니다.
1. 반도체 산업 내부 확장
EUV 노광 장비 전용 AMC 제어 : EUV 미러·광학부는 ppt 단위 오염에도손상 → EUV 라인에서는 AMC 제어가 핵심 인프라.
첨단 패키징(2.5D, 3D IC) : TSV, Hybrid Bonding 등 접합 계면은 AMC에취약 → 패키징 Fab에도 AMC 모니터링 도입 확대.
소재/부품 공급망 관리 : 케미컬, 가스, 웨이퍼 저장·운송 단계에서도 AMC검출·관리 필요.
2. 디스플레이·배터리 산업
OLED/LCD : 유기물 증착 공정에서 AMC가 광학 특성에 영향 → 수율 저하 원인.
이차전지 : 리튬계 전극/전해질이 습기·산성 AMC에 민감 → 셀 성능 및 수명저하 가능.
3. 정밀 광학/우주·항공
우주 위성·광학 센서 : AMC 휘발 성분이 렌즈·거울 표면에 흡착 → 광학 성능 저하.
레이저/광학 기기 : 고출력 레이저의 코팅·렌즈 손상 방지.
4. 바이오·제약 클린룸
세포 배양, 백신, 바이오 의약품 : 분자 오염은 세균·파티클 못지않게 민감.
약효 저하, 배양 실패 방지를 위해 AMC 센싱 + 제어 필요.
5. 스마트 팩토리/환경 모니터링
스마트 빌딩/데이터센터 : 공기 중 산성가스, 부식성 AMC가 전자장비 수명 단축 → 서버 신뢰성 확보 필요.
환경 규제 대응 : VOC, NOx, SOx 등 대기 분자 오염을 정밀 모니터링 → 환경 모니터링·ESG 산업 확장 가능.
1. 반도체 산업 내부 확장
EUV 노광 장비 전용 AMC 제어 : EUV 미러·광학부는 ppt 단위 오염에도손상 → EUV 라인에서는 AMC 제어가 핵심 인프라.
첨단 패키징(2.5D, 3D IC) : TSV, Hybrid Bonding 등 접합 계면은 AMC에취약 → 패키징 Fab에도 AMC 모니터링 도입 확대.
소재/부품 공급망 관리 : 케미컬, 가스, 웨이퍼 저장·운송 단계에서도 AMC검출·관리 필요.
2. 디스플레이·배터리 산업
OLED/LCD : 유기물 증착 공정에서 AMC가 광학 특성에 영향 → 수율 저하 원인.
이차전지 : 리튬계 전극/전해질이 습기·산성 AMC에 민감 → 셀 성능 및 수명저하 가능.
3. 정밀 광학/우주·항공
우주 위성·광학 센서 : AMC 휘발 성분이 렌즈·거울 표면에 흡착 → 광학 성능 저하.
레이저/광학 기기 : 고출력 레이저의 코팅·렌즈 손상 방지.
4. 바이오·제약 클린룸
세포 배양, 백신, 바이오 의약품 : 분자 오염은 세균·파티클 못지않게 민감.
약효 저하, 배양 실패 방지를 위해 AMC 센싱 + 제어 필요.
5. 스마트 팩토리/환경 모니터링
스마트 빌딩/데이터센터 : 공기 중 산성가스, 부식성 AMC가 전자장비 수명 단축 → 서버 신뢰성 확보 필요.
환경 규제 대응 : VOC, NOx, SOx 등 대기 분자 오염을 정밀 모니터링 → 환경 모니터링·ESG 산업 확장 가능.
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